Главная / Лакокрасочные материалы / Грунтовки / Грунтовка интерьерная Церезит IN-10 5л Морозостойкая
Грунтовка интерьерная Церезит IN-10 5л Морозостойкая
Ceresit IN 10 Грунт Интерьер
Грунтовка для внутренних работ под финишную отделку
Свойства
бесцветная;
способствует равномерному нанесению красок и обойных клеев, снижает их расход;
подходит для обработки поверхности перед нанесением всех видов шпаклевок;
укрепляет поверхность и связывает пыль;
пригодна только для внутренних работ;
не содержит органических растворителей;
доступна в морозостойкой версии «Зима»
Область применения
Грунтовка IN 10 Грунт Интерьер предназначена для обработки поверхностей впитывающих оснований стен и потолков – цементных, известковых и гипсовых штукатурок, гипсокартонных листов и т.п. – перед нанесением гипсовых, цементных и полимерных шпаклевок, окрашиванием
водно-дисперсионными красками и поклейкой обоев. Обладает высокой проникающей способностью, снижает впитывающую способность оснований, связывает пыль, укрепляет поверхность, способствует равномерному нанесению красок и обойных клеев, снижает их расход.
Грунтовка для внутренних работ под финишную отделку
Свойства
бесцветная;
способствует равномерному нанесению красок и обойных клеев, снижает их расход;
подходит для обработки поверхности перед нанесением всех видов шпаклевок;
укрепляет поверхность и связывает пыль;
пригодна только для внутренних работ;
не содержит органических растворителей;
доступна в морозостойкой версии «Зима»
Область применения
Грунтовка IN 10 Грунт Интерьер предназначена для обработки поверхностей впитывающих оснований стен и потолков – цементных, известковых и гипсовых штукатурок, гипсокартонных листов и т.п. – перед нанесением гипсовых, цементных и полимерных шпаклевок, окрашиванием
водно-дисперсионными красками и поклейкой обоев. Обладает высокой проникающей способностью, снижает впитывающую способность оснований, связывает пыль, укрепляет поверхность, способствует равномерному нанесению красок и обойных клеев, снижает их расход.
Оставьте отзыв
Заполните обязательные поля *.